, а також Новою Поштою 
, до Відділення або Поштомату перевізника.
|
Кількість
|
Вартість
|
||
|
|
|||
|
|
|||
Очищуюча маска з екстрактом полину - маска для обличчя з очищувальною дією містить компоненти: бетаїн, гіалуронову кислоту і бета-глюкан.
Маска заспокоює і знімає подразнення, стимулює регенерацію і пом'якшує шкіру.
Активні компоненти:
Екстракт полину - живить і відновлює,
бентоніт - чинить очищувальну дію, регулює виділення шкірного сала,
бетаїн - зв'язує воду в епідермісі, підтримує зволоження, заспокоює подразнення і прискорює регенерацію епідермісу,
гіалуронова кислота - зменшує надмірну втрату води з епідермісу, захищає і підтримує регенерацію, додатково пом'якшує, тонізує і розгладжує шкіру,
бета-глюкан - покращує еластичність епідермісу, зменшує подразнення, підтримує функціонування ліпідного бар'єру шкіри.
Спосіб застосування
Лопаткою, що входить до комплекту, набрати засіб, рівномірно розподілити по шкірі обличчя, уникаючи зони навколо очей і губ. Залишити на 15 хвилин і змити водою.